EUV-сканеры от ASML — это сложнейшие системы из 100 тысяч деталей, над которыми работают тысячи компаний, включая Zeiss и Trumpf. Создать полноценный аналог такого оборудования крайне трудно, однако китайские фабрики уже научились обходить запреты. Не имея доступа к новейшим установкам, они оптимизируют техпроцессы и используют старые DUV-системы для выпуска 7-нм чипов.
Сейчас американские власти обсуждают новые барьеры для экспорта ASML в КНР. Пока Вашингтон пытается сдержать развитие отрасли, китайские компании компенсируют нехватку технологий за счет доработки оборудования и изменения литографических операций. Вопрос заключается в том, станет ли этот технологический прессинг стимулом для создания полностью автономной производственной экосистемы внутри страны.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!