Китайский стартап освоил печать чипов без литографов ASML

Китайская компания Prinano нашла способ обхода западных санкций на поставку литографического оборудования, успешно испытав технологию вакуумного наноимпринтинга. Вместо сложных оптических систем для создания фотонных микросхем разработчики применили метод механического оттиска на 8-дюймовых кремниевых пластинах, что обещает десятикратное снижение затрат на производство профильных компонентов для дата-центров и систем связи.

Разработка велась совместно с Shenzhen Litra Technology и знаменует отказ от использования глубокого ультрафиолета (DUV), монополистом которого выступает нидерландская ASML. Суть метода заключается в переносе наноструктур на кремниевую основу с помощью специального шаблона, действующего подобно типографскому прессу. Такой подход исключает необходимость в дорогостоящей оптике, критически важной для традиционных полупроводниковых заводов.

Технология ориентирована на фотонные чипы, обрабатывающие световые сигналы вместо электрических. Эти компоненты востребованы в производстве лазерных сенсоров, лидаров и высокоскоростных сетевых решений. Поскольку фотонные схемы состоят из повторяющихся структур, они идеально подходят для тиражирования методом наноимпринтинга. Несмотря на заявленную готовность к промышленным масштабам, Prinano пока не раскрывает данные о проценте выхода годных изделий, уровне брака или конкретных заказчиках, что оставляет вопросы о реальной коммерческой эффективности проекта.