Сейчас ключевым игроком в производстве литографического оборудования остается нидерландская ASML, чьи EUV-системы недоступны для китайских фабрик из-за санкций. Ограничения затронули даже менее современные DUV-установки. На этом фоне основной надеждой Пекина остается компания SMEE, которая уже серийно выпускает оборудование 90-нанометрового класса и активно экспериментирует с иммерсионной литографией для техпроцессов уровня 28 нм.
Простая сборка прототипа — лишь половина пути. Любая новая установка требует длительной квалификации на реальных производствах. Даже при самом оптимистичном сценарии, если первые образцы попадут на фабрики в 2026 году, наладка полноценного серийного выпуска займет еще несколько лет. Хуанг считает этот процесс неизбежным, называя двух-трехлетний цикл подготовки «сущим пустяком» для масштабов национальной индустрии.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!