Технологический разрыв между Китаем и западными производителями остается критическим, несмотря на масштабные инвестиции Пекина в собственную полупроводниковую промышленность. Сейчас основная энергия китайских инженеров сосредоточена на DUV-литографии, которая позволяет выпускать менее сложные микросхемы, но не подходит для массового производства топовых процессоров под искусственный интеллект или высокопроизводительные вычисления.
Экспериментальные установки, созданные в КНР, пока не способны конкурировать с западными аналогами в точности и стабильности процессов. Отсутствие доступа к передовым EUV-сканерам ASML вынуждает Китай действовать в режиме догоняющего, а сложность самой технологии экстремального ультрафиолета делает задачу быстрого прорыва практически невыполнимой в ближайшие годы.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!